电子、冶金行业高纯水(去离子水)系--EDI水处理,EDI超纯水设备,超纯水设备

一、简介
生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。水质可达最高可达18.3兆欧，符合电子行业生产所需超纯水水质要求。我公司曾为国外很多知名电子工业厂家制作工业超纯水设备。
二、工艺：
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象

三、为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。

1、介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质。设备由优质不锈钢材料制作而成。体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。另外，设备还设有气体冲刷功能，能最大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。
2、活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用,能最大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由优质不锈钢材料制成。
3、RO主机系统引进国际上先进的反渗透技术，利用压力差原理，能有效地去除水中的盐类，脱盐率可达到99%左右。
4、混床系统采用离子交换技术，内装阴、阳树脂，合理的树脂层高度能有效地保证出水水质满足用户要求。

水质：水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）
材质：钢衬胶 不锈钢 有机玻璃等
流量（m3/h）：0.1-500
应用范围：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；超纯材料和超纯化学试剂；实验室和中试车间；汽车、家电表面抛光处理；医药行业用水；其他高科技精微产品。